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正譽受邀參加第140屆國際商標協會年會
時間:2018-05-30   

  5月19日至23日,國際商標協會(INTA)第140屆年會在美國西雅圖的華盛頓會展中心舉行,來自150個國家和地區的1萬余人參加了此次活動。正譽作為INTA會員受邀參加此次業界盛會。

  正譽作為專注于知識產權維權服務的機構,與會期間與各國同行就中國大陸的最新維權政策方向,反侵權假冒工作的熱點及難點進行了深入的探討;同時INTA年會組委會還為參會者組織了各類論壇及互動會議。在各類活動中,演講者分別就近年來商標業界關注的焦點話題進行了報告與討論,主要包括互聯網平臺的仿制品、灰色市場和平行進口商品整治、商標和域名的戰略實施與風險等。

  “在亞太地區,INTA一直十分關注反假冒工作的開展,希望能夠為中國政府、有關組織和知識產權從業人員提供更多的協助與支持?!盜NTA首席執行官阿塞多在介紹INTA的工作計劃時表示,“INTA十分重視在華發生的電子商務領域知識產權侵權、商標搶注等問題的探討和研究。INTA將協助中國政府開展相關工作,為會員企業、知識產權從業人員提供可借鑒的辦法與經驗?!?

  來自中國公安部經偵局的官員,就中國警方在?;ぶ恫ǚ矯嫻墓ぷ鞒曬兄魈庋萁?,并就在華知識產權犯罪新形態做了深入剖析,同時承諾中國政府在知識產權?;すぷ韉木魴暮托判?,得到與會者高度贊許。
  正譽希望在不斷加強自身發展的同時,通過積極開展與國際知識產權界的交流與合作,傳遞全球知識產權領域的相關動向,并通過與國內外知識產權從業者的共同努力,促進全球知識產權行業的進步和發展。
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